[发明专利]一种狭缝光栅及制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201210422463.8 申请日: 2012-10-29
公开(公告)号: CN102937744A 公开(公告)日: 2013-02-20
发明(设计)人: 吴坤;武延兵 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02B26/00 分类号: G02B26/00;G02B27/22
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例提供了一种狭缝光栅及制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,由该狭缝光栅和产生偏振光或非偏振光的显示器件单元构成的显示装置可实现3D显示,并实现3D和2D的切换。狭缝光栅包括:相对设置的第一基板和第二基板,设置在两基板四周的外围腔壁以形成密闭空腔,填充于密闭空腔中的亲水流体和疏水流体,亲水流体为透明物质,疏水流体为不透明物质;还包括:设置在第一基板上的第一电极;设置在第二基板上的第二电极,设置在第二电极上的疏水层,设置在疏水层上多个平行的阻隔墙,阻隔墙包括透明阻挡条,不加电的情况下,疏水流体的厚度不高于透明阻挡条的高度,加电的情况下,疏水流体聚集区域的最高处不高于阻隔墙的最高处。
搜索关键词: 一种 狭缝 光栅 制备 方法 显示装置
【主权项】:
一种狭缝光栅,其特征在于,包括:相对设置的第一基板和第二基板,设置在两基板四周的外围腔壁以形成密闭空腔,以及填充于所述密闭空腔中的亲水流体和疏水流体,其中所述亲水流体为透明物质,所述疏水流体为不透明物质;还包括:设置在所述第一基板上的第一电极;设置在所述第二基板上的第二电极,设置在所述第二电极上的疏水层,以及设置在所述疏水层上的多个相互平行的阻隔墙,所述阻隔墙包括透明阻挡条,且在不加电的情况下,所述疏水流体的厚度不高于所述透明阻挡条的高度,在加电的情况下,所述疏水流体聚集区域的最高处不高于所述阻隔墙的最高处。
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