[发明专利]自对准三重图形的形成方法

摘要

一种自对准三重图形的形成方法，包括提供待刻蚀层，待刻蚀层表面具有分立的第一牺牲层；在待刻蚀层表面以及第一牺牲层的侧壁和顶部形成第二牺牲薄膜、以及第二牺牲薄膜表面的第一侧墙层；平坦化第二牺牲薄膜和第一侧墙层，直至暴露出第一牺牲层的顶部表面，第一侧墙层形成第一侧墙，第二牺牲薄膜形成第二牺牲层，第二牺牲层和第一侧墙的顶部表面与第一牺牲层的顶部表面齐平；在平坦化工艺之后，去除第一牺牲层；去除第一牺牲层之后，在第二牺牲层和第一侧墙两侧的待刻蚀层表面形成第二侧墙；以第一侧墙和第二侧墙为掩膜，干法刻蚀第二牺牲层，直至暴露出待刻蚀层表面为止。所形成的自对准三重图形的尺寸较小，且形成工艺简单。

主权项

一种自对准三重图形的形成方法，其特征在于，包括：提供待刻蚀层，所述待刻蚀层表面具有分立的第一牺牲层；在所述待刻蚀层表面、以及第一牺牲层的侧壁和顶部表面形成第二牺牲薄膜、以及所述第二牺牲薄膜表面的第一侧墙层；平坦化所述第二牺牲薄膜和第一侧墙层，直至暴露出第一牺牲层的顶部表面，所述第一侧墙层形成第一侧墙，所述第二牺牲薄膜形成第二牺牲层，所述第二牺牲层和第一侧墙的顶部表面与所述第一牺牲层的顶部表面齐平，所述第一侧墙位于相邻第一牺牲层之间，且所述第一侧墙与所述待刻蚀层之间具有第二牺牲层；在所述平坦化工艺之后，去除所述第一牺牲层；去除所述第一牺牲层之后，在所述待刻蚀层、第二牺牲层和第一侧墙表面沉积第二侧墙层；回刻蚀所述第二侧墙层，直至暴露出第二牺牲层、第一侧墙的顶部表面，并去除待刻蚀层表面的第二侧墙层，在所述第二牺牲层和第一侧墙两侧的待刻蚀层表面形成第二侧墙；以第一侧墙和第二侧墙为掩膜，干法刻蚀所述第二牺牲层，直至暴露出待刻蚀层表面为止。