[发明专利]一种深紫外化学增幅型正性光致抗蚀剂有效
| 申请号： | 201210429479.1 | 申请日： | 2012-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN102929102A | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 刘陆;薛建设;惠官宝 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;C07C61/29;C07C51/353 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;於毓桢 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种深紫外化学增幅型正性光致抗蚀剂。本发明的深紫外化学增幅型正性光致抗蚀剂包括环戊烯海松酸、二乙烯基醚、光产酸剂和有机溶剂。本发明的深紫外化学增幅型正性光致抗蚀剂具有良好的感度和良好的透明性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 深紫 外化 增幅 型正性光致抗蚀剂 | ||
【主权项】：
1.一种正性光致抗蚀剂，包括环戊烯海松酸、二乙烯基醚、光产酸剂和有机溶剂，所述环戊烯海松酸的结构式如下![]()
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