[发明专利]中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃及工艺有效

专利信息
申请号: 201210430335.8 申请日: 2012-11-01
公开(公告)号: CN102898041A 公开(公告)日: 2013-01-30
发明(设计)人: 陈波;吴斌;孙大海;葛剑君;董华明 申请(专利权)人: 上海耀皮玻璃集团股份有限公司;上海耀皮工程玻璃有限公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36;B32B17/06;B32B15/04;B32B18/00;B32B9/04;B32B33/00
代理公司: 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 代理人: 罗习群;刘莹
地址: 201204 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃及镀制工艺,该玻自玻璃基板向外的结构层依次为:玻璃/电介质层(1)/复合吸收层(1)/铜合金层(1)/银层(1)/保护层(1)/复合电介质层(1)/银层(2)/保护层(2)/电介质层(2);采用真空磁控溅射镀膜工艺,优点是,在原有复合结构中新增加一层铜合金层,能够使其透过颜色呈中性色。并且,铜合金和银的特性使得该玻璃对远红外线的放射率大大提高,即达到了低辐射的性能。
搜索关键词: 中性 复合 结构 辐射 镀膜 玻璃 工艺
【主权项】:
一种中性色的双银复合结构低辐射镀膜玻璃,其特征在于:在玻璃基板镀制包含有复合吸收层在内的多层膜层的结构,各膜层结构,自玻璃基板向外依次为:电介质层(1)、复合吸收层(1)、铜合金层(1)、银层(1)、保护层(1)、复合电介质层(1)、银层(2)、保护层(2)、电介质层(2);其中:电介质层(1)为SiNx,膜层厚度为   25nm~50nm;      复合吸收层(1)为在NiCr镀层上再镀陶瓷ZnOx层,总膜层厚度为12nm~14nm;铜铝合金层(1)为CuAlNx层,膜层厚度为2~10nm;银层(1)、(2)为Ag,膜层厚度为    5nm~15nm;保护层(1)、(2)为NiCr,膜层厚度为  0nm~14nm;      复合电介质层(1)为在ZnO镀层上再依次镀SnO2层、ZnO层结构,总膜层厚度为 50nm~110nm;        电介质层(2)为Si3N4,膜层厚度为 35nm~50nm。
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