[发明专利]含氟氧化烯基聚合物组合物、表面处理剂、使用该处理剂处理的物品及光学物品有效

专利信息
申请号: 201210431718.7 申请日: 2012-11-01
公开(公告)号: CN103087324B 公开(公告)日: 2017-11-10
发明(设计)人: 小森久敏;山根祐治;小池则之 申请(专利权)人: 信越化学工业株式会社
主分类号: C08G77/46 分类号: C08G77/46;C09D183/12
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司72003 代理人: 崔香丹,张永康
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的课题是一种含氟氧化烯基聚合物组合物、表面处理剂、物品及光学物品,该组合物的防水防油性、低动摩擦性、脱模性及污垢擦净性优异,并形成一种耐擦伤性、基材粘附性及耐碱性优异的被膜。本发明提供了一种含氟氧化烯基聚合物组合物,由下述平均组成式(1)表示,Rf1是2价直链型氟氧化烯基,A、B为Rf2基或以式(2)表示的基,且末端Rf2基数相对于末端基总数的比例为30%以上且75%以下,Z是包含硅亚烷基结构或硅亚芳基结构且不包含硅氧烷键的2~7价连结基,X是水解性基团,Y是以CcH2c或C2H4-CrF2r-C2H4表示的连结基,且包含单侧末端含水解性甲硅烷基聚合物及两末端均含水解性甲硅烷基聚合物,A‑Rf1‑B           (1)
搜索关键词: 氧化 聚合物 组合 表面 处理 使用 物品 光学
【主权项】:
一种含氟氧化烯基聚合物组合物,其特征在于,其由下述平均组成式(1)所表示,A‑Rf1‑B  (1)式(1)中,Rf1是包含5~100个‑CdF2dO‑的重复单元的2价直链型氟氧化烯基,d是1~6的整数,且在每一重复单元中相同或不同,A及B彼此独立且为Rf2基或选自由下述式(2)所表示的基团,Rf2是F、H及末端为‑CF3基或‑CF2H基的1价含氟基团中的任一个,Q是选自以下基团的2价有机基,‑CH2OCH2CH2CH2‑‑CF2OCH2CH2CH2‑Z是包含以亚烷基键结两个硅原子而成的硅亚烷基结构或以亚芳基键结两个硅原子而成的硅亚芳基结构且不包含硅氧烷键的2~7价连结基,该连结基所含的硅原子数为2个,R是碳数1~4的烷基或苯基,X是水解性基团,Y是以CCH2C或C2H4-CrF2r-C2H4表示的连结基,a是2或3,b是1~6的整数,c是1~10的整数,r是1~6的整数,并且,末端Rf2基数相对于末端基总数的比例为30%以上且75%以下,且包含单侧末端具有水解性甲硅烷基的含氟氧化烯基聚合物、及两末端均具有水解性甲硅烷基的含氟氧化烯基聚合物。
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