[发明专利]电子钽粉性能改善装置有效

专利信息
申请号: 201210431908.9 申请日: 2012-11-01
公开(公告)号: CN102873323A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 林耀民 申请(专利权)人: 泰克科技(苏州)有限公司
主分类号: B22F1/00 分类号: B22F1/00;F27B15/00
代理公司: 北京华夏博通专利事务所(普通合伙) 11264 代理人: 王锋
地址: 215000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种电子钽粉性能改善装置,包括:主要由进料室、加热室和收料室组成的装置主体;用于提供等离子弧对原料进行加热的等离子加热器系统,包括:设于加热室中的喷枪,其喷射方向与由进料室输入加热室的原料的下落轨迹相应,以及,与喷枪配合的能源供给及控制单元;至少用于在装置主体内产生真空环境的真空系统,所述真空系统分别与进料室、加热室和收料室连通;至少用于向等离子加热器系统及装置主体提供等离子弧用气及保护和/或平衡用气的气源及控制系统。本发明采用等离子做热源,加热温度高,加热时间短,冷却迅速,处理后的钽粉无结块现象,不增加新的杂质,粒形得到较大改善,比容损失小,流动性能好,耐压值提高明显。
搜索关键词: 电子 性能 改善 装置
【主权项】:
一种电子钽粉性能改善装置,其特征在于,它包括:装置主体,包括进料室(1)、加热室(5)和收料室(6),所述加热室(5)设于进料室(1)正下方,所述收料室(6)设于加热室(5)下方;用于提供等离子弧对原料进行加热的等离子加热器系统,包括:设于加热室(5)中的喷枪(12),所述喷枪(12)的喷射方向与由进料室(1)输入加热室(5)的原料的下落轨迹相应;以及,与喷枪配合的能源供给及控制单元;至少用于在装置主体内产生真空环境的真空系统,所述真空系统分别与进料室(1)、加热室(5)和收料室(6)连通;至少用于向等离子加热器系统及装置主体提供等离子弧用气及保护和/或平衡用气的气源及控制系统(8)。
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