[发明专利]等离子体反应腔在审
| 申请号： | 201210438566.3 | 申请日： | 2012-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN103811258A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 聂淼 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体反应腔。该等离子体反应腔包括：腔体、内衬、卡盘和进气装置，所述内衬位于所述腔体的内部，所述内衬包括底壁和侧壁，所述侧壁与所述腔体之间具有一定距离，所述底壁上设置有底壁开孔，所述侧壁上设置有侧壁开孔，所述卡盘位于所述腔体的内部且用于放置衬底，所述进气装置用于向所述腔体内部输入反应气体以产生等离子体，反应后的剩余气体及反应副产物通过所述底壁开孔和所述侧壁开孔从所述腔体内被抽出。本发明提供的等离子体反应腔增大了反应气体在衬底表面的扩散面积，提高了衬底表面气体流场分布的均匀性，从而提高了刻蚀工艺的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 反应 | ||
【主权项】：
一种等离子体反应腔，其特征在于，包括：腔体、内衬、卡盘和进气装置，所述内衬位于所述腔体的内部，所述内衬包括底壁和侧壁，所述侧壁与所述腔体之间具有一定距离，所述底壁上设置有底壁开孔，所述侧壁上设置有侧壁开孔，所述卡盘位于所述腔体的内部且用于放置衬底，所述进气装置用于向所述腔体内部输入反应气体以产生等离子体，反应后的剩余气体及反应副产物通过所述底壁开孔和所述侧壁开孔从所述腔体内被抽出。
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