[发明专利]一种产生亚稳相纳米颗粒束流和沉积纳米薄膜的气相方法有效
| 申请号： | 201210438712.2 | 申请日： | 2012-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN102925863A | 公开（公告）日： | 2013-02-13 |
| 发明（设计）人： | 陆伟华 | 申请（专利权）人： | 苏州新锐博纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人： | 徐激波 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种产生亚稳相纳米颗粒束流和沉积纳米薄膜的气相方法，首先采用蒸发、溅射或烧蚀的方法形成蒸气后与大量的气体碰撞凝聚生长，形成气相团簇束流源；对纳米团簇束流产生的相关气体工作气压和凝聚区长度进行限制，之后将其电离，加速，使得从其出发到衬底时的纳米颗粒能量在接近或超过每个原子1eV的区间，尤其是1±0.1eV；在固态衬底上高速沉积形成亚稳相含量更高的纳米薄膜：对于固体团簇束流源，采用加大缓冲气体的通入量，使得第一级团簇束流源室的气压工作在100Pa-2000Pa之间；第一级和第二级保持1个数量级以上的气压差；前驱物气化位置至差分抽气喷嘴的距离延长。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 产生 亚稳相 纳米 颗粒 沉积 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
一种产生亚稳相纳米颗粒束流和沉积纳米薄膜的气相方法，首先将需要产生的薄膜材料采用蒸发、溅射或烧蚀的方法形成蒸气后与大量的气体碰撞凝聚生长，形成气相团簇束流源，产生颗粒直径在1‑100纳米之间纳米尺寸分布集中的纳米团簇束流；对纳米团簇束流产生的相关气体工作气压和凝聚区长度进行限制，之后将其电离，加速，使得从其出发到衬底时的纳米颗粒能量在接近或超过每个原子1eV的区间，尤其是1±0.1eV；在固态衬底上高速沉积形成亚稳相含量更高的纳米薄膜： 1）对于固体团簇束流源，采用加大缓冲气体的通入量，使得第一级团簇束流源室的气压工作在100Pa‑2000Pa之间；第一级和第二级保持1个数量级以上的气压差； 2）前驱物气化位置至差分抽气喷嘴的距离延长。
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