[发明专利]去除磷硅玻璃的设备和方法

摘要

本发明公开了一种去除磷硅玻璃的设备和方法，该方法包括：将扩散完成后的硅片放置在第二密封容器中；将N2通入到氢氟酸溶液中，通过N2将含水的氟化氢气体通入第二密封容器中，其中，所述氢氟酸溶液存储在第一密封容器中；在第二密封容器中，含水的氟化氢气体与硅片表面的PSG反应，去除硅片表面的PSG；从第二密封容器中排出反应生成物。本发明提供的去除磷硅玻璃的方法，由于含水的氟化氢气体与硅片表面的PSG的反应是在密封设备中进行的，因此，降低了人接触剧毒化学品氢氟酸的概率，增加了生产的安全性。

主权项

一种密封设备，用于去除磷硅玻璃PSG，其特征在于，包括：存储氢氟酸溶液的第一密封容器和放置硅片的第二密封容器，其中，第一密封容器包括第一进气口和第一出气口，第二密封容器包括第二进气口和第二出气口，所述第一进气口连接N2输入管路，第一出气口连接第二进气口，第二出气口连接废气排放管路。