[发明专利]有机发光显示装置及其制造方法有效
| 申请号： | 201210442419.3 | 申请日： | 2012-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN103165527A | 公开（公告）日： | 2013-06-19 |
| 发明（设计）人： | 赵晟焕 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/77 | 分类号： | H01L21/77;H01L51/56;H01L27/32;H01L51/50 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 韩明星 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 在一种有机发光显示装置以及制造该有机发光显示装置的方法中，所述方法包括在基底上形成薄膜晶体管(TFT)并且形成有机发光二极管(OLED)，每个OLED包括：第一电极，具有被位于TFT上的像素限定层(PDL)暴露的部分；有机层，位于第一电极的暴露的部分上并且包括被构造为发射具有多种颜色中的相应的一种颜色的光的发射层(EML)；第二电极，位于有机层上。在通过在PDL中形成开口而形成的具有一种颜色的子像素区域和具有其他颜色的其他子像素区域中的每个子像素区域中形成EML。在所述具有一种颜色的子像素区域中形成与所述具有一种颜色的子像素区域连通的子像素区域溶液供应单元。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 发光 显示装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种制造有机发光显示装置的方法，所述方法包括下述步骤：在基底上形成多个薄膜晶体管；以及形成多个有机发光二极管，每个有机发光二极管包括：第一电极，具有被位于薄膜晶体管上的像素限定层暴露的部分；有机层，位于第一电极的暴露的部分上并且包括被构造为发射具有多种颜色中的至少一种颜色的光的发射层；第二电极，位于有机层上，其中，在多个子像素区域中的具有一种颜色的子像素区域和具有其他颜色的其他子像素区域中的每个子像素区域中形成发射层，通过在像素限定层中形成开口来形成所述多个子像素区域，在所述具有一种颜色的子像素区域中形成与所述具有一种颜色的子像素区域连通的溶液供应单元，通过溶液供应单元向所述具有一种颜色的子像素区域和所述具有其他颜色的其他子像素区域供应用于多种颜色的发射层原料，从而形成发射层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
