[发明专利]一种聚合物纳米通道的制作方法有效
| 申请号： | 201210447091.4 | 申请日： | 2012-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN102910575A | 公开（公告）日： | 2013-02-06 |
| 发明（设计）人： | 周杰;郭进;冯俊波;滕婕;王俊 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第三十八研究所;合肥公共安全技术研究院 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 安徽汇朴律师事务所 34116 | 代理人： | 胡敏 |
| 地址： | 230031 安徽省合*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种聚合物纳米通道的制作方法，包括以下步骤：（1）在清洗后的衬底上旋转涂覆抗蚀剂，获得抗蚀剂层；（2）烘烤除去抗蚀剂溶剂；（3）通过曝光和显影，获得成对的纳米线条结构；（4）用清洗液清洗纳米线条结构，待清洗液在空气中完全挥发后，纳米通道制作完成。本发明利用液体表面张力进行通道密封，无需现有技术的键合工艺，从而不会出现流体在通道中的堵塞等现象，与电子束光刻技术相比，降低了加工成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 聚合物 纳米 通道 制作方法 | ||
【主权项】：
一种聚合物纳米通道的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）在清洗后的衬底上旋转涂覆抗蚀剂，获得抗蚀剂层；（2）烘烤除去抗蚀剂溶剂；（3）通过曝光和显影，获得成对的纳米线条结构；（4）用清洗液清洗纳米线条结构，待清洗液在空气中完全挥发后，纳米通道制作完成。
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