[发明专利]大脑体积测量系统有效

专利信息
申请号: 201210448083.1 申请日: 2012-11-09
公开(公告)号: CN103565440B 公开(公告)日: 2016-11-23
发明(设计)人: 孙家伟;庄竞程;谢曜声 申请(专利权)人: 法玛科技顾问股份有限公司
主分类号: A61B5/107 分类号: A61B5/107;A61B5/1455
代理公司: 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 代理人: 陈圣清
地址: 中国台湾台中市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种大脑体积测量系统,利用光线通过大脑时,大脑结构的不同影响光学讯号在大脑中的分布情形来进行造影与量化分析,上述的该大脑体积测量系统至少包含一光学装置及一评估置;其中该光学装置进一步包含至少一光学探头与复数个检测器,用以发射及接收光线并得到一第一光学讯号,再经由该评估装置处理该第一光学讯号以得到一第二光学讯号,以测量受测者的大脑体积。本发明在门诊时便可直接对病患做实时的测量来辅助诊断,对于居家照护方面可提供病患的长时间监控数据来帮助医师做长期的追踪与诊断,也可以针对病患的治疗过程做长时间的疗效评估。
搜索关键词: 大脑 体积 测量 系统
【主权项】:
一种大脑体积测量系统,用以测量一受测者的大脑体积,其特征在于,包含:一光学装置,包含:至少一光学探头,平贴于该受测者头顶中间或头部额头中央,并发出至少一光线射入受测者头顶中间或额头中央并距其头顶6公分深度处,以及复数个检测器,置于该受测者头部,接收复数个散射光子,得到一第一光学讯号;其中,当该光学探头平贴于该受测者头顶中间时,该些检测器分布于该受测者头部冠状切面,而当该光学探头平贴于该受测者头部额头中央时,该些检测器系分布于该受测者头部横状切面或矢状切面;上述两种情况下,该光学探头与该些检测器间的距离分别为1至5公分;以及一评估装置,包含:一数据库,具有复数病理分类,且每一该病理分类包含有复数大脑结构退化程度;以及一显示单元;其中,该评估装置利用一m×n多点式大脑体积测量算法处理该第一光学讯号以得到一第二光学讯号,若该第二光学讯号是符合该些病理分类其中一个的临界值,进一步比对该数据库中该些属于该病理分类的大脑结构退化程度程度,由该显示单元显示一大脑结构退化程度分级结果,且该数据库亦由该结果的累积进行更新。
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