[发明专利]工件台与掩模台公用的平衡质量系统及光刻机有效
| 申请号： | 201210451784.0 | 申请日： | 2012-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN103809384A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 王天明 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种工件台与掩模台公用的平衡质量系统，这种平衡质量系统，包括平衡质量体以及平衡质量体防漂及补偿装置，所述平衡质量体包括用于安装工件台系统的平衡质量体的工件台部分、用于安装掩模台系统的平衡质量体的掩模台部分以及平衡质量体的连接部分，所述平衡质量体的工件台部分与所述平衡质量体的掩模台部分通过所述平衡质量体的连接部分连接，所述平衡质量体的工件台部分悬浮支撑于基础框架上，所述平衡质量体的连接部分通过所述平衡质量体防漂及补偿装置与所述基础框架相连，所述平衡质量体防漂及补偿装置靠近整个所述平衡质量体的重心位置设置。本发明能够节省掩模台系统的外部支架，减小整机的体积和重量，以及较少所需平衡质量的质量，使得整体结构更加紧凑。 | ||
| 搜索关键词： | 工件 掩模台 公用 平衡 质量 系统 光刻 | ||
【主权项】：
一种工件台与掩模台公用的平衡质量系统，其特征在于，包括平衡质量体以及平衡质量体防漂及补偿装置，所述平衡质量体包括用于安装工件台系统的平衡质量体的工件台部分、用于安装掩模台系统的平衡质量体的掩模台部分以及平衡质量体的连接部分，所述平衡质量体的工件台部分与所述平衡质量体的掩模台部分通过所述平衡质量体的连接部分连接，所述平衡质量体的工件台部分悬浮支撑于基础框架上，所述平衡质量体的连接部分通过所述平衡质量体防漂及补偿装置与所述基础框架相连，所述平衡质量体防漂及补偿装置靠近整个所述平衡质量体的重心位置设置。
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