[发明专利]一种去除残留光刻胶的方法无效
| 申请号： | 201210452177.6 | 申请日： | 2012-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN103809395A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 孙庆东 | 申请（专利权）人： | 孙庆东 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人： | 王澎 |
| 地址： | 264000 *** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种去除残留光刻胶的方法，其特征在于，所述方法步骤如下：配备清洗液：取浓硫酸和双氧水以1:5的比例混合；将配备出的清洗液放入自动冷却装置中，打开机械臂开关及循环水开关，使清洗液迅速降温至室温，关上开关；将待清洗的芯片放至清洗液中，浸泡5分钟；将清洗完的芯片放入烘干机内烘干。本发明能够快速的将清洗液冷却至常温，使双氧水能够保持最大的功效，保证了清洗液的纯度，从而使残留光刻胶去除的更为彻底，保证了芯片的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 去除 残留 光刻 方法 | ||
【主权项】：
一种去除残留光刻胶的方法，其特征在于，所述方法步骤如下：（1）配备清洗液：取浓硫酸和双氧水以1:5的比例混合；（2）将配备出的清洗液放入自动冷却装置中，打开机械臂开关及循环水开关，使清洗液迅速降温至室温，关上开关；（3）将待清洗的芯片放至清洗液中，浸泡5分钟；（4）将清洗完的芯片放入烘干机内烘干。
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