[发明专利]一种钯-铜-三氧化二铝催化分离复合膜及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201210453159.X 申请日: 2012-11-13
公开(公告)号: CN102921309A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 刘小珍;刘兆鑫 申请(专利权)人: 上海应用技术学院
主分类号: B01D71/02 分类号: B01D71/02;B01D67/00;B01D69/12;C01B3/56;C01B3/38;B01D53/22;B01J23/89;B01J35/10;B01J37/02;C25D3/56;C25D3/58;C25D7/00;C25D5/02
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 吴宝根
地址: 200235 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种钯-铜-三氧化二铝催化分离复合膜及其制备方法和应用,即采用电镀法在多孔通孔阳极氧化铝膜的表面镀上一层钯-铜膜,且制备过程中贴在阴极上的这一面镀上的钯-铜膜的结构致密,厚度为0.1~0.5μm,最终形成一表面是多纳米孔、另一表面是致密的钯-铜-三氧化二铝催化分离复合膜。该钯-铜-三氧化二铝催化分离复合膜应用于催化甲烷水蒸气重整制氢和混合气中氢气的分离,最终钯-铜-三氧化二铝催化分离复合膜的甲烷催化转化率为100%,透氢率为7.31~7.98×10-6mol·m-2·s-1Pa-1,对催化甲烷水蒸气重整制氢后所产生的氢气的分离系数(H2/CH4)为906~920。
搜索关键词: 一种 氧化 催化 分离 复合 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种钯‑铜‑三氧化二铝催化分离复合膜,其特征在于采用电镀法在多孔通孔阳极氧化铝膜的表面镀上一层钯‑铜膜,且制备过程中贴在阴极上的这一面镀上的钯‑铜膜的结构致密,厚度为0.1~0.5μm,最终形成一表面是多纳米孔、另一表面是致密的钯‑铜‑三氧化二铝催化分离复合膜。
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