[发明专利]硫化锌基片多光谱增透保护薄膜无效

专利信息
申请号: 201210453338.3 申请日: 2012-11-13
公开(公告)号: CN102914807A 公开(公告)日: 2013-02-06
发明(设计)人: 董茂进;陈焘;王多书;熊玉卿;王济洲;李晨;张玲 申请(专利权)人: 中国航天科技集团公司第五研究院第五一0研究所
主分类号: G02B1/11 分类号: G02B1/11;G02B1/10
代理公司: 甘肃省知识产权事务中心 62100 代理人: 马英
地址: 730000*** 国省代码: 甘肃;62
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种硫化锌(ZnS)基片多光谱增透保护薄膜,括硫化锌基片,所述硫化锌基片的一面镀制多光谱增透膜,一面镀制多光谱保护膜。所述增透膜的镀制材料由低折射率材料和高折射率材料组成。所述低折射率材料为氟化钇;高折射率材料为硫化锌。所述多光谱保护膜的镀制材料为氮氧化铪。镀制的保护膜和增透膜在3.0~5.0中波红外和7~10长波红外谱段具有高的透射率,平均透射率大于80%;镀制的保护膜可以经受住拉拔试验和擦拭试验,满足红外窗口、头罩等的使用要求。
搜索关键词: 硫化锌 基片多 光谱 保护 薄膜
【主权项】:
一种硫化锌基片多光谱增透保护薄膜,包括硫化锌基片,其特征在于:所述硫化锌基片的一面镀制多光谱增透膜,一面镀制多光谱保护膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国航天科技集团公司第五研究院第五一0研究所,未经中国航天科技集团公司第五研究院第五一0研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210453338.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top