[发明专利]软硬结合板等离子处理过程防铜箔膨胀的方法有效

专利信息
申请号: 201210453488.4 申请日: 2012-11-13
公开(公告)号: CN102917548A 公开(公告)日: 2013-02-06
发明(设计)人: 刘秋华;穆敦发;吴小龙;吴梅珠;徐杰栋;胡广群;梁少文 申请(专利权)人: 无锡江南计算技术研究所
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00;H05K3/36
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 龚燮英
地址: 214083 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种软硬结合板等离子处理过程防铜箔膨胀的方法,包括:贴胶带步骤,用于在层压前在软板区上贴一层聚酰亚胺胶带;层压步骤,用于采用覆箔法进行层压以便在软硬结合板上覆铜箔,其中在软板区上覆盖铜箔,并且铜箔直接和软板区的覆盖膜接触;铜箔蚀刻步骤,用于在层压后通过图形蚀刻方式蚀刻掉软板区上的铜箔;等离子处理步骤,用于执行等离子处理以实现去钻污;聚酰亚胺胶带去除步骤,用于去除聚酰亚胺胶带。根据本发明,通过层压前在软板区上贴一层耐高温的聚酰亚胺胶带保护软板区,并在层压后通过蚀刻方式去除软板区上的铜箔,使得等离子处理过程中不会出现铜箔膨胀,并且使覆盖膜不受损伤。
搜索关键词: 软硬 结合 等离子 处理 过程 铜箔 膨胀 方法
【主权项】:
一种软硬结合板等离子处理过程防铜箔膨胀的方法,其特征在于包括:贴胶带步骤,用于在层压前在软板区上贴一层聚酰亚胺胶带;层压步骤,用于采用覆箔法进行层压以便在软硬结合板上覆铜箔,其中在软板区上覆盖铜箔,并且铜箔直接和软板区的覆盖膜接触;铜箔蚀刻步骤,用于在层压后通过图形蚀刻方式蚀刻掉软板区上的铜箔;等离子处理步骤,用于执行等离子处理以实现去钻污;聚酰亚胺胶带去除步骤,用于去除聚酰亚胺胶带。
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