[发明专利]曝光装置、光掩模及微元件的制造方法及投影光学装置

摘要

一种扫描型曝光装置，使用配置于扫描方向前方侧的第1投影光学系统PL2及配置于扫描方向后方侧的第2投影光学系统PL1，一边改变第1投影光学系统及第2投影光学系统与第1物体M及第2物体P在扫描方向上的位置关系，一边将第1物体的图案转印曝光至第2物体上，且第1投影光学系统及第2投影光学系统分别将第1物体上的视场内的放大像形成于第2物体上的像场内，当将第1投影光学系统及第2投影光学系统的视场的中心彼此在扫描方向上的间隔设为Dm，将第1投影光学系统及第2投影光学系统的像场的中心彼此在上述扫描方向上的间隔设为Dp，且将第1投影光学系统及第2投影光学系统各自的投影倍率设为β时，满足Dp＜Dm×｜β｜（其中，｜β｜＞1）。

主权项

一种扫描型曝光装置，一边使第1物体与第2物体在第1方向上移动，一边将上述第1物体的图案转印曝光在上述第2物体上,上述扫描型曝光装置的特征在于包括：第1投影光学系统,将上述第1物体上的视场内的该图案的放大像形成于上述第2物体上的像场内;第2投影光学系统,相对于该第1投影光学系统，在该第1方向、及与该第1方向呈正交的第2方向设置间隔而配置，将该第1物体上的视场内的该图案的放大像形成于该第2物体上的像场内，当将上述第1投影光学系统及上述第2投影光学系统的上述视场的中心彼此在上述第1方向上的间隔设为Dm,将上述第1投影光学系统及上述第2投影光学系统的上述像场的中心彼此在上述第1方向的间隔设为Dp,且将上述第1投影光学系统及上述第2投影光学系统的投影倍率设为β时,满足Dp＜Dm×｜β｜，其中，｜β｜＞1，且其中该图案包括对应于该第1投影光学系统而配置的第1行图案部、对应于该第2投影光学系统而配置且相对于该第1行图案部在该第1方向上错开规定量而配置的第2行图案部，且所述规定量等于（Dm×｜β｜－Dp）÷｜β｜。