[发明专利]一种酸性化学机械抛光液无效
| 申请号： | 201210457098.4 | 申请日： | 2012-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN103806001A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 高嫄;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23F3/00 | 分类号： | C23F3/00 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明的酸性化学机械抛光液，含有：研磨颗粒，水，氧化剂，含银离子化合物，抛光促进剂以及溶解在抛光液中的银螯合物，其中，所述抛光液还含有水溶性表面加工润滑剂。该抛光液可用于抛光存储器硬盘，能够在对存储器硬盘基片进行经抛光的过程中防止形成微凸起、微凹坑和其它表面缺陷，抛光速率不低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 酸性 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种酸性化学机械抛光液，含有：研磨颗粒，水，氧化剂，含银离子化合物，抛光促进剂以及溶解在抛光液中的银螯合物，其中，所述抛光液还含有水溶性表面加工润滑剂。
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