[发明专利]聚噻吩薄膜场效应晶体管及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201210457515.5 申请日: 2012-11-14
公开(公告)号: CN102931351A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 潘革波;肖燕 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: H01L51/40 分类号: H01L51/40;H01L51/30;H01L51/00
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 杨林;马翠平
地址: 215123 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及电子导电材料的制作领域,尤其是聚噻吩薄膜场效应晶体管的制作方法,聚噻吩薄膜场效应晶体管包括栅电极、绝缘层、有源层、源电极和漏电极,所述有源层包括聚噻吩薄膜,在所述聚噻吩薄膜与源电极、漏电极的连接部加入具有导电性质的掺杂剂。本发明还提供这种聚噻吩薄膜场效应晶体管结构。本发明的聚噻吩薄膜场效应晶体管能提高聚噻吩薄膜的导电性能,提高载流子注入效率,从而改善聚噻吩与金属源、漏电极功函数匹配的问题。
搜索关键词: 噻吩 薄膜 场效应 晶体管 及其 制作方法
【主权项】:
聚噻吩薄膜场效应晶体管的制作方法,聚噻吩薄膜场效应晶体管包括栅电极、绝缘层、有源层、源电极和漏电极,其特征在于,所述有源层包括聚噻吩薄膜,在所述聚噻吩薄膜与源电极、漏电极的连接部加入具有导电性质的掺杂剂。
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