[发明专利]一种低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴有效
| 申请号： | 201210462363.8 | 申请日： | 2012-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN103801466A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 胡延兵;王丽鹤 | 申请（专利权）人： | 沈阳芯源微电子设备有限公司 |
| 主分类号： | B05B1/00 | 分类号： | B05B1/00;B05B1/30;H01L21/67 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 白振宇 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及集成电路制造单片湿法处理设备，具体地说是一种低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴，包括药液盒盖板、线型喷嘴型板、药液分配孔板、喷嘴主架、隔离板及温控盒压板，药液分配孔板及隔离板分别安装在喷嘴主架的两侧，隔离板与喷嘴主架之间形成喷洒药液分散减压腔体，温控盒压板与喷嘴主架之间形成喷洒药液温控腔体；药液分配孔板与喷嘴型板之间以及药液分配孔板上分别设有相连通的喷洒药液线型分布均控流量腔体；喷嘴主架上分别设有进液通道及槽型孔，槽型孔的两侧分别连通喷洒药液分散减压腔体及药液分配孔板上的喷洒药液线型分布均控流量腔体。本发明喷洒药液温度、流量均匀一致，冲击压力低且均匀，实现精细湿法化学处理晶片目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 冲击力 流量 湿法 处理 工艺 喷嘴 | ||
【主权项】：
一种低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴，其特征在于：包括药液盒盖板(1)、线型喷嘴型板(2)、药液分配孔板(3)、喷嘴主架(4)、隔离板(5)及温控盒压板(6)，其中药液分配孔板(3)及隔离板(5)分别安装在喷嘴主架(4)的两侧，隔离板(5)与喷嘴主架(4)之间形成喷洒药液分散减压腔体(C)，所述隔离板(5)外罩温控盒压板(6)，该温控盒压板(6)与喷嘴主架(4)之间形成喷洒药液温控腔体；所述药液分配孔板(3)的外侧依次安装线型喷嘴型板(2)及药液盒盖板(1)，药液分配孔板(3)与喷嘴型板(2)之间以及药液分配孔板(3)上分别设有相连通的喷洒药液线型分布均控流量腔体；所述喷嘴主架(4)上分别设有进液通道(14)及槽型孔(12)，该进液通道(14)沿喷嘴主架(4)的长度方向设置，一端与喷洒药液源相连，另一端与所述喷洒药液分散减压腔体(C)连通，所述槽型孔(12)的两侧分别连通喷洒药液分散减压腔体(C)及药液分配孔板(3)上的喷洒药液线型分布均控流量腔体。
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