[发明专利]孔径公差测量的方法及其装置有效

专利信息
申请号: 201210466068.X 申请日: 2012-11-16
公开(公告)号: CN102927954A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 陆雪松;王莹;薛芃;王攀;施慧慧 申请(专利权)人: 余姚市博明威机械厂(普通合伙)
主分类号: G01B21/14 分类号: G01B21/14
代理公司: 余姚德盛专利代理事务所(普通合伙) 33239 代理人: 胡小永
地址: 315402 浙江省宁波市余姚*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种孔径公差精密的方法及其装置。本发明公开了一种孔径公差测量的方法,其中,包括以下步骤:(1)通过零位基准孔和锥形测量头设定零位移点,设定零位移点的位移值为L1;(2)移动测量头,使测量头插入到被测孔内并与被测孔接触,通过测量探头测得测量头的位移值为L2;(3)计算测量头的相对位移值,即:L3=L2—L1,其中,L3为测量头相对零位基准孔的相对位移值;计算被测孔孔径的公差值,即:α=L3×K,其中,α为公差值,K为测量头的锥度,以及与上述方法相对的装置。计算方法简便,能够快速的计算出被测孔的公差,计算精度达微米级;通过简单的装置实现精密测量目的,机械机构稳定,提高了测量的准确度,降低成本。
搜索关键词: 孔径 公差 测量 方法 及其 装置
【主权项】:
一种孔径公差测量的方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)通过零位基准孔和锥形测量头设定零位移点,设定零位移点的位移值为L1;(2)移动测量头,使测量头插入到被测孔内并与被测孔接触,通过测量探头测得测量头的位移值为L2;(3)计算测量头的相对位移值,即:L3=L2—L1,其中,L3为测量头相对零位基准孔的相对位移值;(4)计算被测孔孔径的公差值,即:α=L3×K,其中,α为公差值,K为测量头的锥度。
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