[发明专利]半导体装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201210466154.0 申请日: 2012-11-16
公开(公告)号: CN103545279B 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 李起洪;皮昇浩;文成益 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H01L27/11548 分类号: H01L27/11548;H01L27/11556;H01L27/11575;H01L27/11582
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙)11363 代理人: 许伟群,俞波
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体装置包括单元结构;在单元结构的一侧形成的n个第一焊盘结构,并且每个第一焊盘结构被配置成具有台阶形式,其中2n个层形成一个层级;以及在单元结构的另一侧形成的n个第二焊盘结构,每个第二焊盘结构被配置成具有台阶形式,其中2n个层形成一个层级,其中n是1或更大的自然数,并且第一焊盘结构和第二焊盘结构具有高度不同的非对称的台阶形式。
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体装置,包括:单元结构;n个第一焊盘结构,每个第一焊盘结构具有台阶形式,其中2n个层形成一个层级;以及n个第二焊盘结构,每个第二焊盘结构具有台阶形式,其中2n个层形成一个层级,其中n是1或更大的自然数,所述单元结构位于所述n个第一焊盘结构与所述n个第二焊盘结构之间,并且彼此面对且所述单元结构置于其间的第一焊盘结构和第二焊盘结构关于彼此是非对称的,且具有彼此不同的高度。
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