[发明专利]含有卤化烷基锌的氧化锌前驱体和利用该前驱体沉积氧化锌类薄膜的方法有效
| 申请号： | 201210467947.4 | 申请日： | 2012-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN103122453A | 公开（公告）日： | 2013-05-29 |
| 发明（设计）人： | 朴洙昊;金序炫;朴正佑;朴兑正;刘泳祚;尹根尚;崔殷豪;金荣云;金保京;申亨秀;尹承镐;李相度;李相益;任相俊 | 申请（专利权）人： | 三星康宁精密素材株式会社 |
| 主分类号： | C23C16/40 | 分类号： | C23C16/40 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 康泉;王珍仙 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种用于氧化锌类薄膜沉积的氧化锌前驱体，其包含具有下通式的卤化烷基锌：R-Zn-X，其中R为烷基CnH2n+1，且X为卤素基团。n为1至4的数值，烷基选自甲基、乙基、异丙基和叔丁基中的一种。卤素基团包括选自F、Br、Cl和I中的一种。一种沉积氧化锌类薄膜的方法包括将基板装入沉积室中；并将上述包含卤化烷基锌的氧化锌前驱体和氧化剂供给到沉积室中并通过化学气相沉积法在基板上形成氧化锌类薄膜。所述氧化锌类的薄膜通过常压化学气相沉积法沉积在基板上。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 卤化 烷基 氧化锌 前驱 利用 沉积 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
一种用于氧化锌类薄膜沉积的氧化锌前驱体，所述氧化锌前驱体包含具有下通式的卤化烷基锌：R‑Zn‑X，其中R为烷基CnH2n+1，且X为卤素基团。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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