[发明专利]形成图案的方法

摘要

本发明公开了一种形成图案的方法。提供具有第一、第二与第三区域的基底。于第一、第二与第三区域的基底上分别形成第一、第二与第三图案。第一图案具有线宽L1与间距S1，且S1/L1=3。第二图案具有线宽L2与间距S2，且S2/L2为大于或等于3的整数。第三图案具有线宽L3与间距S3，且S3/L3=1。于第一、第二与第三图案的侧壁上分别形成第一、第二与第三间隙壁。于第一区域的基底上形成第一罩幕层。于暴露出的基底上形成第二罩幕层。移除第一罩幕层、第一图案、第二图案与第三图案。本发明的形成图案的方法，通过二次图案化工艺且仅使用两道光罩即可同时在不同区域的基底上形成具有不同间距线宽比的图案，因而有效地降低工艺复杂度，节省工艺成本。

主权项

一种形成图案的方法，包括：提供具有第一区域、第二区域与第三区域的基底；于所述第一区域、所述第二区域与所述第三区域的所述基底上分别形成第一图案、第二图案与第三图案，所述第一图案具有第一线宽L1与第一间距S1，所述第二图案具有第二线宽L2与第二间距S2，所述第三图案具有第三线宽L3与第三间距S3，其中S1/L1=3，S2/L2为大于或等于3的整数且S3/L3=1；于所述第一图案、所述第二图案与所述第三图案的侧壁上分别形成第一间隙壁、第二间隙壁与第三间隙壁；于所述第一区域的所述基底上形成第一罩幕层，所述第一罩幕层覆盖所述第一图案与所述第一间隙壁；于暴露出的所述基底上形成第二罩幕层；以及移除所述第一罩幕层、所述第一图案、所述第二图案与所述第三图案。