[发明专利]一种可见光响应的聚吡咯/Bi2WO6复合催化剂及其制备方法有效
| 申请号： | 201210472155.6 | 申请日： | 2012-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN102941124A | 公开（公告）日： | 2013-02-27 |
| 发明（设计）人： | 段芳;张乾宏;魏从杰;施冬健;东为富;倪忠斌;陈明清 | 申请（专利权）人： | 江南大学 |
| 主分类号： | B01J31/34 | 分类号： | B01J31/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214122 江苏省无锡市蠡*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可见光响应的聚吡咯/Bi2WO6复合光催化剂及其制备方法，其主要特征是Bi2WO6光催化剂因其光生电子-空穴容易再结合，使其光催化活性降低，通过导电聚合物聚吡咯在其表面进行修饰，可显著改善光生电子-空穴的分离，从而提高Bi2WO6可见光催化剂的光催化性能。制备步骤为：①水热法合成纳米片状Bi2WO6；②原位聚合得到不同聚吡咯修饰量的聚吡咯/Bi2WO6复合光催化剂。该方法工艺简单，成本低廉，制备的聚吡咯/Bi2WO6复合光催化剂在可见光下具有很高的光催化活性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 可见光 响应 吡咯 bi sub wo 复合 催化剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种可见光响应的聚吡咯/Bi2WO6复合光催化剂，其特征在于：由质量比为1∶1000～1∶20的聚吡咯和Bi2WO6复合而成，利用导电聚合物聚吡咯的表面修饰作用，显著提高Bi2WO6的可见光光催化性能。
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