[发明专利]硬化性组成物及其制造方法、硬化物及光学半导体装置有效
| 申请号： | 201210477565.X | 申请日： | 2012-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN103173019A | 公开（公告）日： | 2013-06-26 |
| 发明（设计）人： | 野村博幸;中西康二;根本哲也;后藤佑太;玉木研太郎 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | C08L83/07 | 分类号： | C08L83/07;C08L83/05;C08K5/01;H01L33/56 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 日本东京港*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的为提供一种硬化性组成物及其制造方法、硬化物及光学半导体装置。该硬化性组成物的特征在于含有：具有烯基的聚硅氧烷(A)、饱和烃化合物(B)及每1分子中具有至少2个与硅原子键结的氢原子的聚硅氧烷(D)。本发明的硬化性组成物可形成粘性充分减低的硬化物。包含由本发明的硬化性组成物所形成的硬化物作为密封材等的光学半导体装置在硬化物的表面附着尘埃等的可能性小，而且在产品的筛选中所使用的送料器中，产生封装体彼此粘着等问题的可能性小。 | ||
| 搜索关键词： | 化性 组成 及其 制造 方法 硬化 光学 半导体 装置 | ||
【主权项】：
一种硬化性组成物，其含有：具有烯基的聚硅氧烷(A)、饱和烃化合物(B)及每1分子中具有至少2个与硅原子键结的氢原子的聚硅氧烷(D)。
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