[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201210479004.3 | 申请日： | 2012-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN103834305B | 公开（公告）日： | 2017-08-29 |
| 发明（设计）人： | 姚颖;荆建芬;王文龙 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所11352 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于浅沟槽隔离工艺的化学机械抛光液，它含有一种二氧化硅磨料，一种或多种阴离子表面活性剂和水，该抛光液具有较高的高密度二氧化硅（HDP‑Oxide）的去除速率以及较高的高密度二氧化硅（HDP‑Oxide）对氮化硅的抛光选择比，对图形晶圆的台阶结构具有较高的校正能力，表面均一性较好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，其特征在于，所述抛光液包含二氧化硅磨料，水以及两种阴离子表面活性剂的混合物，其中，所述的阴离子表面活性剂为萘磺酸盐类表面活性剂和磷酸酯盐类表面活性剂的混合物，所述的磷酸酯盐类表面活性剂选自烷基醇聚氧乙烯醚(n)磷酸酯钾盐、烷基醇聚氧乙烯醚(n)磷酸酯铵盐、烷基酚聚氧乙烯醚(n)磷酸酯钾盐、烷基酚聚氧乙烯醚(n)磷酸酯铵盐、烷基酚聚氧乙烯醚(n)磷酸酯乙醇胺盐、烷基酚聚氧乙烯醚(n)磷酸酯二乙醇胺盐和/或烷基酚聚氧乙烯醚(n)磷酸酯三乙醇胺盐中的一种或多种，其中n＝2～12，所述的萘磺酸盐类表面活性剂选自亚甲基二萘磺酸钠，甲基萘磺酸钠甲醛缩聚物和/或苄基萘磺酸甲醛缩聚物中的一种或多种，所述阴离子表面活性剂的浓度为0.005％‑0.5wt％。
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