[发明专利]一种光刻设备中超高压汞灯的恒光强控制电路无效
| 申请号： | 201210479137.0 | 申请日： | 2012-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN103048887A | 公开（公告）日： | 2013-04-17 |
| 发明（设计）人： | 刘卫平 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H05B41/38 |
| 代理公司： | 北京中建联合知识产权代理事务所 11004 | 代理人： | 朱丽岩;刘湘舟 |
| 地址： | 065201 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 一种光刻设备中超高压汞灯的恒光强控制电路，包括光强反馈模块，将光强基准信号与采样的超高压汞灯紫外光强信号差分放大形成光强反馈信号输出；功率反馈模块，将采样的超高压汞灯电压及电流信号运算放大后相乘形成功率反馈信号，经滤波、信号调节后输出；运算与处理模块，对光强反馈信号与功率反馈信号求和运算，经滤波、信号调节后输出到脉宽控制模块；脉宽控制器模块，根据信号运算与处理模块输出信号调节功率变换电路的高压脉冲占空比，实现对超高压汞灯光强度控制。本发明通过信号运算与处理模块光强反馈信号与功率反馈信号求和运算，再由脉宽控制模块调节功率变换电路高压脉冲占空比，调节供给超高压汞灯发光功率，达到稳定光强目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 设备 超高压 恒光强 控制电路 | ||
【主权项】：
一种光刻设备中超高压汞灯的恒光强控制电路，其特征在于，包括：光强反馈模块，用于将光强基准信号与采样的超高压汞灯紫外光强信号差分放大后形成光强反馈信号输出；功率反馈模块，用于将采样的超高压汞灯电压信号及电流信号运算放大后相乘形成功率反馈信号，经滤波及信号调节后输出；运算与处理模块，用于对所述光强反馈信号与功率反馈信号求和运算，经滤波及调节处理后输出到脉宽控制模块；脉宽控制器模块，用于根据所述信号运算与处理模块的输出信号调节功率变换电路中的高压脉冲占空比，实现对超高压汞灯光强度的控制。
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