[发明专利]单晶长晶装置及长晶方法无效

专利信息
申请号: 201210482584.1 申请日: 2012-11-23
公开(公告)号: CN103710741A 公开(公告)日: 2014-04-09
发明(设计)人: 朴钟仁;李钟赞;金玹洙;洪荣坤 申请(专利权)人: BIAM株式会社
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00;C30B29/20
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 吴俊
地址: 韩国忠清*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明的目的在于提供一种单晶长晶装置及长晶方法,对坩埚内部温度梯度更加准确、主动地控制,通过强化真空腔的结构、防止其长期使用时发生变形,最大限度地降低单晶成长时的长度方向上的残留应力、防止出现裂缝或破裂,增大单晶成长直径。为了达到上述目的,本发明的单晶长晶装置包括可上下移动地设置在腔体10内部的坩埚30,设置在坩埚30侧部的侧部加热器22,设置在坩埚30下部的下部加热器24,贯穿腔体10和下部加热器24到达坩埚30、可上下移动地设置的冷却棒40,驱动冷却棒40的驱动单元50,对侧部加热器22和下部加热器24各自加热条件、冷却棒40的上下运动条件分别进行控制的配电设备。
搜索关键词: 单晶长晶 装置 方法
【主权项】:
一种单晶长晶装置,其特征在于:包括真空或非活性氛围腔体10;位于腔体10内部,为了培养籽晶A成长可按上下移动地设置的坩埚30;相对于坩埚30侧面整个周围、固定地设置的侧部加热器22;相对于坩埚30下部、固定地设置的下部加热器24;依次贯穿腔体10和下部加热器24到达坩埚30,可上下移动地设置的冷却棒40。
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