[发明专利]低雷达散射截面金属支架总散射场计算方法有效
| 申请号： | 201210483297.2 | 申请日： | 2012-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN102967774A | 公开（公告）日： | 2013-03-13 |
| 发明（设计）人： | 许小剑;陈鹏辉 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | G01R29/08 | 分类号： | G01R29/08 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种低雷达散射截面金属支架总散射场计算方法，包括：计算得到金属端帽的第一总散射场；计算得到组合体的第二总散射场，其中，组合体包括金属支架及安装在金属支架顶端的金属端帽；根据第一总散射场和第二总散射场，计算得到金属支架的第三总散射场。本发明提供的低雷达散射截面金属支架总散射场计算方法，通过在金属支架顶端加装一个经过合理外形设计的低散射金属端帽，并从金属支架与端帽组合体的散射场中滤除金属端帽的散射场，得到金属支架的散射场，且该得到的金属支架的散射场模拟反映了真实目标测量状态下，目标安装在支架顶端时金属支架的散射场，为最终目标的RCS的精确测量提供了保证。 | ||
| 搜索关键词： | 雷达 散射 截面 金属支架 计算方法 | ||
【主权项】：
一种低雷达散射截面金属支架总散射场计算方法，其特征在于，包括：计算得到金属端帽的第一总散射场；计算得到组合体的第二总散射场，其中，组合体包括金属支架以及安装在所述金属支架顶端的金属端帽；根据所述第一总散射场和所述第二总散射场，计算得到所述金属支架的第三总散射场。
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