[发明专利]一种生产高性能钕铁硼粘接磁粉的工艺方法有效
申请号: | 201210483565.0 | 申请日: | 2012-11-26 |
公开(公告)号: | CN102990057A | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 蔺继荣;刘官员 | 申请(专利权)人: | 包头市科锐微磁新材料有限责任公司 |
主分类号: | B22F1/00 | 分类号: | B22F1/00;H01F1/057;H01F1/08 |
代理公司: | 包头市专利事务所 15101 | 代理人: | 张少华 |
地址: | 014010 内蒙古自*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
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摘要: | 本发明涉及一种生产高性能钕铁硼粘接磁粉的工艺方法,其特征是:将快淬钕铁硼磁粉按照晶体显微结构的区别和磁粉内部晶体平均尺寸分为:过淬磁粉、欠淬磁粉、合理淬速磁粉三类;按所述分类标准对磁粉进行分离,将分离出的三种不同淬率的磁粉,采用不同的晶化热处理温度和时间进行热处理,从而得到最佳磁性能的磁粉。其优点是:应用精确计算的磁选分级方法,将不同淬率的磁粉分类,然后针对不同淬率磁粉,采用不同的晶化热处理温度和时间的热处理方式,使晶粒分布均匀,得到最佳的晶粒尺寸,从而得到最佳的磁性能,制成高性能的粘接磁粉,本工艺方法可以将同类磁粉的性能提高15~20%以上。 | ||
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【主权项】:
一种生产高性能钕铁硼粘接磁粉的工艺方法,其特征是:将快淬钕铁硼磁粉按照晶体显微结构的区别和磁粉内部晶体平均尺寸进行分类,将快淬磁粉分为:过淬磁粉、欠淬磁粉、合理淬速磁粉三类;第一类过淬磁粉的平均微观晶粒尺度范围小于8纳米或者是非晶状态,第二类欠淬磁粉的微观晶粒尺度范围大于50纳米,第三类合理淬速磁粉的平均微观晶粒尺寸范围在8~50纳米;按所述分类标准对磁粉进行分离,将分离出的三种不同淬率的磁粉,采用不同的晶化热处理温度和时间进行热处理:过淬磁粉晶化温度温度范围是675~750℃,晶化时间范围是20~25分钟;合理淬率磁粉晶化温度范围是600~660℃,晶化时间范围是10~15分钟;欠淬磁粉晶化温度范围是540 ~570℃,晶化时间范围是5~10分钟。
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