[发明专利]Ni-W-P、Ni-P双合金镀层激光纳米化方法

摘要

本发明属于工业生产中的金属表面改性，特别涉及一种Ni-W-P、Ni-P双合金镀层激光纳米化方法。该Ni-W-P、Ni-P双合金镀层激光纳米化方法，其特殊之处在于：包括以下步骤：（1）化学沉积，得到Ni-W-P、Ni-P双合金镀层；（2）激光诱导，得到Ni-W-P、Ni-P纳米化的双合金镀层。本发明直接在空气中进行激光诱导双镀层晶化制备纳米晶材料，不仅对于实际生产提供了可操作性，更重要的是获得的纳米化双镀层具有特定的晶粒尺寸、晶化程度等组织特征，既能提高镀层与金属基体的结合力，又不致于牺牲其基体的性能，从而最大限度的发挥不同镀层各自的优势，极大地改善材料的表面性能。

主权项

一种Ni‑W‑P、Ni‑P双合金镀层激光纳米化方法，其特征在于：包括以下步骤：化学沉积：将清洁的基材置于装有Ni‑P镀液的镀槽内施镀，Ni‑P镀液温度为80‑90℃，pH值为4‑5，取出，去离子水清洗得到Ni‑P镀层；然后将Ni‑P镀层转入另一盛有Ni‑W‑P镀液的镀槽施镀，Ni‑W‑P镀液温度为90‑98℃，pH 值9‑10，取出，用流动的水冲洗干净得到Ni‑W‑P、Ni‑P双合金镀层；激光诱导：采用半导体激光器扫描Ni‑W‑P、Ni‑P双合金镀层，扫描速度为7‑14mm/s，得到Ni‑W‑P、Ni‑P纳米化的双合金镀层。