[发明专利]测定四氟化硅气体中杂质碘含量的方法有效

专利信息
申请号: 201210493730.0 申请日: 2012-11-28
公开(公告)号: CN103091271A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 唐安江;刘松林;张妙鹤;汤正河;张瑞;韦德举;龚孝祥 申请(专利权)人: 贵州瓮福蓝天氟化工股份有限公司;贵州大学
主分类号: G01N21/33 分类号: G01N21/33
代理公司: 贵阳中工知识产权代理事务所 52106 代理人: 刘安宁
地址: 550500 贵州省黔南布依*** 国省代码: 贵州;52
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摘要: 发明公开了测定四氟化硅气体中杂质碘含量的方法,包括以下步骤:第一步,配置100mLNaOH或KOH吸收液;第二步,连接好冷冻装置;第三步,用惰性气体置换整个管路中的空气,然后抽真空,反复5次;第四步,将经浓硫酸吸收、含氟化氢的浓硫酸吸收、活性炭、硅藻土净化后的SiF4气体引入冷冻装置,除去HI以及I2;第五步,将冷冻后的SiF4气体引入吸收瓶吸收,控制增重量m;第六步,用紫外分光光度法分析气体中的碘含量。本发明方法用于四氟化硅中杂质碘的分析,可以准确、迅速地测定碘杂质的含量,有利于高纯度四氟化硅的生产。适用于生产四氟化硅的企业。
搜索关键词: 测定 氟化 气体 杂质 含量 方法
【主权项】:
测定四氟化硅中的碘含量的方法,其特征包括如下步骤:第一步,配置100mL NaOH或KOH吸收液;第二步,连接好冷冻装置;第三步,用惰性气体置换整个管路中的空气,然后抽真空,反复5次;第四步,将经浓硫酸吸收、含氟化氢的浓硫酸吸收、活性炭、硅藻土净化后的SiF4气体引入冷冻装置,除去HI以及I2;第五步,将冷冻后的SiF4气体引入吸收瓶吸收,控制增重量m;第六步,用紫外分光光度法分析气体中的碘含量。
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