[发明专利]从含氰镀金废液中沉淀金的方法有效
申请号: | 201210496357.4 | 申请日: | 2012-11-28 |
公开(公告)号: | CN102978414A | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 殷国元;高麒麟;李俊;马振彦;官香元;刘晶;张秋玲;崔明玉;姚晓琳;刘佳丽 | 申请(专利权)人: | 大连东泰产业废弃物处理有限公司 |
主分类号: | C22B11/00 | 分类号: | C22B11/00;C22B7/00 |
代理公司: | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人: | 赵淑梅 |
地址: | 116600 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明提供了一种从含氰镀金废液中沉淀金的方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)在容器中加入金离子含量为1-500mg/L的含氰镀金废液,用质量浓度为10%的NaOH调节pH为12,加入NaClO调节氧化还原电位为350mv,反应30min,再加入质量浓度为10%的H2SO4调节pH为7.5,加入NaClO调节氧化还原电位为650mv,反应30min,使废液中的氰浓度被破坏至小于1mg/L;(2)向氰被破坏后的含氰镀金废液中加入金沉淀剂,搅拌反应,过滤。本发明的方法既可以保护环境,又可以使金得到沉淀,提高资源利用率。 | ||
搜索关键词: | 镀金 废液 沉淀 方法 | ||
【主权项】:
一种从含氰镀金废液中沉淀金的方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)破坏氰在容器中加入金离子含量为1‑500mg/L的含氰镀金废液,用质量浓度为10%的NaOH调节pH为12,加入NaClO调节氧化还原电位为350mv,反应30min,再加入质量浓度为10%的H2SO4调节pH为7.5,加入NaClO调节氧化还原电位为650mv,反应30min,使废液中的氰浓度被破坏至小于1mg/L;(2)沉淀金向氰被破坏后的含氰镀金废液中加入金沉淀剂,搅拌反应,过滤。
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