[发明专利]一种碱性化学机械抛光液无效
| 申请号： | 201210496768.3 | 申请日： | 2012-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN103849317A | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 王晨;王雨春;何华锋 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/04 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于阻挡层的碱性化学机械抛光液，含有研磨颗粒、聚乙烯醇和氧化剂，其中，所述抛光液还含有铜腐蚀抑制剂A和铜腐蚀抑制剂B，其中，所述铜腐蚀抑制剂B既有铜腐蚀抑制作用，也具备络合作用。该抛光液可以适度调节对铜表面的腐蚀抑制强度，控制铜的抛光速度，同时可以更好地保护、抑制对铜宽线区和细线区的腐蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 碱性 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种碱性化学机械抛光液，其含有研磨颗粒、聚乙烯醇和氧化剂，其中，所述抛光液还含有铜腐蚀抑制剂A和铜腐蚀抑制剂B，其中，所述铜腐蚀抑制剂B既有铜腐蚀抑制作用，也具备络合作用。
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