[发明专利]一种通过钛合金微弧氧化进行着色的工艺方法无效
申请号: | 201210497133.5 | 申请日: | 2012-11-23 |
公开(公告)号: | CN103014812A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 汤宏才 | 申请(专利权)人: | 北京星航机电设备厂 |
主分类号: | C25D11/26 | 分类号: | C25D11/26 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100074 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明属于表面处理技术中的金属着色和染色领域,具体涉及一种通过钛合金微弧氧化进行着色的工艺方法。目的是为了克服电解着色膜层的缺陷。该方法在微弧氧化着色时,采用双向方波,脉冲波形频率在150Hz~1700Hz;正向电流密度为5A/dm2~15A/dm2,负向电流密度为5A/dm2~15A/dm2;正向占空比10%~50%,负向占空比10%~50%;微弧氧化着色时间为3min~20min。本发明通过微弧氧化工艺,在钛合金基体上直接产生光亮、细腻有色陶瓷层。该方法产生的装饰性陶瓷层,特别适应于对于具有高档装饰需求的钛合金制品,膜层具有耐蚀、耐热、耐紫外光、耐磨等优点,同时能保持金属的光泽,真正实现着色膜层的装饰效果。膜层的技术特征是具有特殊色泽的陶瓷层。 | ||
搜索关键词: | 一种 通过 钛合金 氧化 进行 着色 工艺 方法 | ||
【主权项】:
一种通过钛合金微弧氧化进行着色的工艺方法,其特征在于:在微弧氧化着色时,采用双向方波,脉冲波形频率在150Hz~1700Hz;正向电流密度为5A/dm2~15A/dm2,负向电流密度为5A/dm2~15A/dm2;正向占空比10%~50%,负向占空比10%~50%;微弧氧化着色时间为3min~20min。
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