[发明专利]用于紫外光刻机的光刻照明系统

摘要

一种用于紫外光刻机的光刻照明系统，包括：紫外激光器、一维连续变倍扩束镜组、衍射光学元件转盘机构、傅里叶变换透镜、匀光系统和控制器，所述的衍射光学元件转盘机构沿圆周均匀地设有多个衍射光学元件。所述的紫外激光器产生平行光束，沿光束传输方向依次是所述的一维连续变倍扩束镜组、转盘机构的衍射光学元件、傅里叶变换透镜和匀光系统。本发明具有系统结构简单、光学透过率高、不存在锥形镜组引入的光瞳劣化问题、能有效降低光刻机的生产成本等特点。

主权项

一种用于紫外光刻机的光刻照明系统，特征在于其构成包括：紫外激光器（11）、一维连续变倍扩束镜组（12）、转盘机构（13）、傅里叶变换透镜（14）、匀光系统（16）和控制器（18），上述元部件的位置关系如下：所述的紫外激光器（11）产生的截面为方形的平行光束，沿该光束传输方向依次是所述的一维连续变倍扩束镜组（12）、转盘机构（13）、傅里叶变换透镜（14）和匀光系统（16）；所述的转盘机构（13）含有多个衍射光学元件，所述的控制器（18）通过圆编码器精确控制转盘机构（13）的转动，选择所需的衍射光学元件，实现所需的照明模式；每个衍射光学元件由多个子区域排列而成，所述的控制器（18）控制所述的衍射光学元件沿其子区域排列方向移动，实现照明光瞳面（15）上内环大小的调节；所述的傅里叶变换透镜（14）将所述的衍射光学元件发散的环形光束在其后焦面照明光瞳面上变换成环形光斑，得到所需的照明模式，该照明光瞳面（15）的光强分布经所述的匀光系统（16）进行均匀化处理，并投射到掩模面（17）上。