[发明专利]基板清洗装置及清洗方法有效

专利信息
申请号: 201210499934.5 申请日: 2012-11-29
公开(公告)号: CN103846245B 公开(公告)日: 2018-01-16
发明(设计)人: 王晖;陶学成;陈福平 申请(专利权)人: 盛美半导体设备(上海)有限公司
主分类号: B08B3/04 分类号: B08B3/04;B08B13/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 陆勍
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种基板清洗装置和方法,装置包括单片清洗腔体,用于基板的清洗和干燥;槽式清洗腔体,用于基板浸泡清洗和/或干燥,槽式清洗腔体具有盛放多片基板的支架和用于升降和翻转支架的支架翻转装置;第一机械手,将干态基板放入或取出单片清洗腔体;及第二机械手,在单片清洗腔体和槽式清洗腔体之间传输基板。本发明将槽式清洗与单片清洗相结合,对基板进行槽式清洗或单片清洗或两者结合,基板在槽式清洗腔体中清洗结束后,可不用干燥处理而直接传输至单片清洗腔体,缩短了工艺流程周期,降低了工艺成本,做到了基板干湿分离。
搜索关键词: 清洗 装置 方法
【主权项】:
一种基板清洗装置,包括:至少一单片清洗腔体,用于单片基板的清洗和干燥;至少一槽式清洗腔体,用于多片基板的浸泡清洗和/或干燥,所述槽式清洗腔体具有至少一用于盛放所述多片基板的支架和一用于升降和翻转所述支架的支架翻转装置,先后将多片基板水平放入所述槽式清洗腔体的支架中,然后支架翻转装置90°翻转所述支架,再下降所述支架使基板竖直浸入所述槽式清洗腔体的清洗液中浸泡清洗,然后上升所述支架并90°翻转所述支架,再从所述支架中水平取出最先放入的基板,同时再水平放入另一片基板到所述支架中;第一机械手,用于将干态基板放入或取出所述单片清洗腔体;及第二机械手,用于在所述单片清洗腔体和所述槽式清洗腔体之间传输基板。
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