[发明专利]一种复合材料低速冲击示踪层有效
申请号: | 201210500633.X | 申请日: | 2012-11-29 |
公开(公告)号: | CN102990990A | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 张代军;安学锋;包建文;钟翔屿;刘刚 | 申请(专利权)人: | 中国航空工业集团公司北京航空材料研究院 |
主分类号: | B32B3/14 | 分类号: | B32B3/14;B32B18/00;B32B27/04 |
代理公司: | 中国航空专利中心 11008 | 代理人: | 陈宏林 |
地址: | 10009*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明是一种复合材料低速冲击示踪层,所述低速冲击示踪层是指在复合材料表面(1)贴覆的陶瓷薄层,功能是通过该陶瓷薄层受到低速冲击后的状态变化,来辨别复合材料相应冲击受损区域、冲击能量的大小及冲击后剩余压缩强度;该陶瓷薄层是非连续状的,陶瓷薄层是用单片陶瓷基片(2)拼贴而成,陶瓷基片(2)的厚度为0.1~0.5mm,面积为100~2500mm2,相邻陶瓷基片(2)之间的间隙应小于0.2mm。本发明技术方案是在复合材料表面涂覆陶瓷薄层,通过该陶瓷薄层受到低速冲击后的状态变化,来辨别复合材料相应冲击受损区域、冲击能量的大小及冲击后剩余压缩强度。 | ||
搜索关键词: | 一种 复合材料 低速 冲击 示踪层 | ||
【主权项】:
一种复合材料低速冲击示踪层,其特征在于:所述低速冲击示踪层是指在复合材料表面(1)贴覆的陶瓷薄层,功能是通过该陶瓷薄层受到低速冲击后的状态变化,来辨别复合材料相应冲击受损区域、冲击能量的大小及冲击后剩余压缩强度;该陶瓷薄层是非连续状的,陶瓷薄层是用单片陶瓷基片(2)拼贴而成,陶瓷基片(2)的厚度为0.1~0.5mm,面积为100~2500mm2,相邻陶瓷基片(2)之间的间隙应小于0.2mm。
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