[发明专利]带有保护层的Zr-Co-Re薄膜吸气剂及其制备方法无效
| 申请号： | 201210500682.3 | 申请日： | 2012-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN103849835A | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 毛昌辉;田士法;张心强;朱君;崔航 | 申请（专利权）人： | 北京有色金属研究总院 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/28 |
| 代理公司： | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人： | 刘徐红 |
| 地址： | 100088 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种带有保护层的Zr-Co-Re薄膜吸气剂及其制备方法，本发明吸气剂由吸气层和保护层组成，吸气层的主要成分为Zr、Co以及稀土元素La、Ce、Pr、Nd中的一种或几种，保护层的主要成分为Ni。本发明使用脉冲激光沉积镀膜方法制备，在绒面单晶硅上沉积含有保护层和吸气层的双层结构薄膜吸气剂。绒面衬底能增大吸气薄膜有效面积，从而提高吸气速率和吸气量。吸气层表面镀有Ni保护层，Ni对氢具有解离功能，能够提高氢的吸附量，并且保护层能够阻碍氧的吸附，降低激活温度。本发明可在180~350℃烘烤的过程中实现激活，烘烤后吸气剂在室温条件下具有良好的吸气性能，可用于高真空微电子器件中，消除内部残余气体。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 保护层 zr co re 薄膜 吸气 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种带有保护层的Zr‑Co‑Re薄膜吸气剂，由吸气层和保护层组成，其特征在于：所述吸气层为Zr、Co以及稀土元素La、Ce、Pr、Nd中的一种或几种，保护层为Ni。
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