[发明专利]一种侦测硅片平坦度的装置及方法

摘要

本发明公开了一种侦测硅片平坦度的装置及方法，其属于微电子技术领域，装置包括传感器、金属槽和注液管，传感器包括主体金属管、喷气管、光发射器和光接收器；方法包括：注液管向传感器中注入超纯水，喷气管持续向下喷出超洁净空气以防止超纯水溢出；光发射器发出一束斜向上与竖直方向呈预设夹角θ的平行光束，光接收器完全接收位于水平面上的所有平行光束；根据光接收器接收到的平行光束的光强，计算得出传感器对应的硅片上的侦测点的高度；最终拟合出整片硅片的平坦度；上述技术方案的有益效果是：解决了采用光学侦测平坦度以及气体结合光学侦测平坦度这两种侦测方法的缺陷，能够准确地测得硅片表面光刻胶上的平坦度。

主权项

一种侦测硅片平坦度的装置，其特征在于，包括多个并排排列的传感器、金属槽和注液管；相邻两个所述传感器之间具有预设的间距；每个所述传感器固定在一个相应的所述金属槽上，并配备一个相应的所述注液管对所述传感器内部注入液体；每个所述传感器用于侦测所述硅片上的一个对应的侦测点的高度；所述传感器包括一个主体金属管，所述主体金属管下部外圈包括一排喷气管，所述喷气管用于向所述主体金属管内喷入超洁净空气；所述主体金属管内壁一侧设有光发射器，另一侧设有光接收器，所述光接收器位于所述光发射器的上方。