[发明专利]磁共振成像片层变形警示的方法及装置有效

专利信息
申请号: 201210501900.5 申请日: 2012-11-30
公开(公告)号: CN103845054B 公开(公告)日: 2017-12-22
发明(设计)人: 张治国 申请(专利权)人: 上海联影医疗科技有限公司
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201815 上海市嘉*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种片层变形警示的方法,其包括步骤1,在系统校准时,获取梯度场的场图,根据梯度场的场图和设定的梯度场阈值计算出梯度场的近似线性区;步骤2,扫描定位像并加载用于后续扫描的片层组定位参考,打开后续扫描协议,计算出梯度场近似线性区与定位像的交线并标示出来;步骤3,根据该扫描协议的设定参数确定片层方位和片层视野大小,根据该信息以及梯度场近似线性区计算该片层组中的片层是否位于变形可接受范围之内,将未落入可接受范围内的片层在扫描协议中置“可能变形”的标示码;步骤4,判断该片层组的方向、位置和视野大小是否发生改变,当发生改变时,重复步骤3。本发明还公开了一种片层变形警示的装置,简化了用户的操作同时获得更高的准确性和安全性。
搜索关键词: 磁共振 成像 变形 警示 方法 装置
【主权项】:
一种用于磁共振成像的片层变形警示的方法,其包括:步骤1,在系统校准时,获取梯度场的场图,根据所述梯度场的场图和设定的梯度场阈值计算出梯度场的近似线性区;步骤2,扫描定位像并加载用于后续扫描的片层组定位参考,打开后续扫描协议,计算出所述梯度场近似线性区与所述定位像的交线并标示出来;步骤3,根据该扫描协议的设定的参数确定片层方位和片层视野大小,根据确定的片层方位和片层视野大小以及梯度场近似线性区计算该片层组中的片层是否位于变形可接受范围之内,将未落入所述可接受范围内的片层在扫描协议中设置“可能变形”的标示码;步骤4,判断该片层组的方向、位置和视野大小是否发生改变,当发生改变时,重复步骤3。
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