[发明专利]阳极氧化装置、具有该装置的阳极氧化系统及半导体晶片

摘要

一种阳极氧化装置，将基板浸渍在电解质溶液中来进行阳极氧化反应，具有：存积槽，其存积电解质溶液，保持部，其能够与各基板的周面以液密的状态接触并保持多个基板，移动机构，其使所述保持部在位于所述存积槽的外部的交接位置和位于所述存积槽的内部的处理位置之间移动，封闭部，其位于所述存积槽内，与所述保持部协同动作来对所述保持部所保持的多个所述基板的周面完成液密性的封闭；使保持有多个基板的所述保持部移动至所述处理位置，并且使所述封闭部动作，在使多个基板的周面处于液密的状态下进行氧化反应处理，在氧化反应处理结束之后，使所述封闭部不动作，并且使所述保持部从所述处理位置离开，以从所述存积槽搬出多个基板。

主权项

一种阳极氧化装置，将基板浸渍在电解质溶液中来进行阳极氧化反应，其特征在于，所述阳极氧化装置具有：存积槽，其存积电解质溶液，保持机构，其能够与各基板的周面以液密的状态接触来保持多个基板，移动机构，其使所述保持机构在位于所述存积槽的外部的交接位置和位于所述存积槽的内部的处理位置之间移动，封闭机构，其位于所述存积槽内，与所述保持机构协同动作来对所述保持机构所保持的多个所述基板的周面完成液密性的封闭；使保持有多个基板的所述保持机构移动至所述处理位置，并且使所述封闭机构动作，在使多个基板的周面处于液密的状态下进行氧化反应处理，在氧化反应处理结束之后，使所述封闭机构不动作，并且使所述保持机构从所述处理位置离开，以从所述存积槽搬出多个基板。