[发明专利]具有高亮度高发光效率的外延生长结构无效
申请号: | 201210505746.9 | 申请日: | 2012-12-01 |
公开(公告)号: | CN102983237A | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 钟玉煌;郭文平 | 申请(专利权)人: | 江苏新广联科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/14 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所 32104 | 代理人: | 曹祖良 |
地址: | 214111 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种具有高亮度高发光效率的外延生长结构,所述具有高亮度高发光效率的外延生长结构,包括衬底及生长于所述衬底上的半导体发光结构,所述半导体发光结构包括生长于衬底上的缓冲层,所述缓冲层上生长有N型化合物半导体材料层,所述N型化合物半导体材料层上生长有有源层;所述有源层上生长有电子溢出阻挡层,所述电子溢出阻挡层上生长P型化合物半导体材料层。本发明通过电子溢出阻挡层与P型化合物半导体材料层共同阻挡电子的溢出,增加有源区的复合电子数量,从而有效地提高制备得到发光器件的发光效率,提高LED芯片的发光亮度及发光效率,与现有工艺兼容,工艺方便,结构紧凑,安全可靠。 | ||
搜索关键词: | 具有 亮度 发光 效率 外延 生长 结构 | ||
【主权项】:
一种具有高亮度高发光效率的外延生长结构,包括衬底(1)及生长于所述衬底(1)上的半导体发光结构,所述半导体发光结构包括生长于衬底(1)上的缓冲层(2),所述缓冲层(2)上生长有N型化合物半导体材料层(3),所述N型化合物半导体材料层(3)上生长有有源层(4);其特征是:所述有源层(4)上生长有电子溢出阻挡层(5),所述电子溢出阻挡层(5)上生长P型化合物半导体材料层(6)。
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