[发明专利]具有高亮度高发光效率的外延生长结构无效

专利信息
申请号: 201210505746.9 申请日: 2012-12-01
公开(公告)号: CN102983237A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 钟玉煌;郭文平 申请(专利权)人: 江苏新广联科技股份有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/14
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所 32104 代理人: 曹祖良
地址: 214111 江苏省无锡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种具有高亮度高发光效率的外延生长结构,所述具有高亮度高发光效率的外延生长结构,包括衬底及生长于所述衬底上的半导体发光结构,所述半导体发光结构包括生长于衬底上的缓冲层,所述缓冲层上生长有N型化合物半导体材料层,所述N型化合物半导体材料层上生长有有源层;所述有源层上生长有电子溢出阻挡层,所述电子溢出阻挡层上生长P型化合物半导体材料层。本发明通过电子溢出阻挡层与P型化合物半导体材料层共同阻挡电子的溢出,增加有源区的复合电子数量,从而有效地提高制备得到发光器件的发光效率,提高LED芯片的发光亮度及发光效率,与现有工艺兼容,工艺方便,结构紧凑,安全可靠。
搜索关键词: 具有 亮度 发光 效率 外延 生长 结构
【主权项】:
一种具有高亮度高发光效率的外延生长结构,包括衬底(1)及生长于所述衬底(1)上的半导体发光结构,所述半导体发光结构包括生长于衬底(1)上的缓冲层(2),所述缓冲层(2)上生长有N型化合物半导体材料层(3),所述N型化合物半导体材料层(3)上生长有有源层(4);其特征是:所述有源层(4)上生长有电子溢出阻挡层(5),所述电子溢出阻挡层(5)上生长P型化合物半导体材料层(6)。
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