[发明专利]降低涡电流磁场的系统和方法有效

专利信息
申请号: 201210506594.4 申请日: 2012-11-30
公开(公告)号: CN103852740A 公开(公告)日: 2014-06-11
发明(设计)人: 华夷和;T.J.霍利斯 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: G01R33/385 分类号: G01R33/385
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 周少杰
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明揭示一种降低涡电流磁场的系统和方法,其包括主磁体,第一梯度线圈以及第二梯度线圈。主磁体用于产生主磁场。该第一梯度线圈与第一支撑件相关联设置,该第一梯度线圈被设置在主磁体之内,第一梯度线圈施加至少一个梯度磁场在该主磁场上,以进行空间编码。第二梯度线圈与第二支撑件相关联设置,第二梯度线圈也被设置在主磁体之内,第二梯度线圈抵消第一梯度线圈产生的边缘磁场,以使得在主磁场内所产生的涡电流磁场最小化。第一梯度线圈和第二梯度线圈中的任一者被特意地进行调节,以使得第一梯度线圈和第二梯度线圈之间具有非零的偏移值,该非零的偏移值补偿至少一个制造偏差所引起的涡电流磁场。本发明还揭示工具和方法。
搜索关键词: 降低 电流 磁场 系统 方法
【主权项】:
一种梯度线圈调整方法,其特征在于:该方法至少包括如下步骤:测量与仿真磁体相关的至少在X轴、Y轴和Z轴之一方向上的第一涡电流磁场,该第一涡电流磁场根据作用到第一梯度线圈和第二梯度线圈的脉冲电流而产生,该第一梯度线圈和该第二梯度线圈被设置成具有第一偏移值,该第一梯度线圈被第一支撑件支撑,该第二梯度线圈被第二支撑件支撑,该第一支撑件和该第二支撑件定义至少一个制造偏差;将测量到的第一涡电流磁场分解成与该仿真磁体相关的偏移型涡电流磁场和制造偏差型涡电流磁场,该偏移型涡电流磁场与该第一梯度线圈和该第二梯度线圈之间的该第一偏移值相对应,该制造偏差型涡电流磁场与该第一支撑件和该第二支撑件所定义的该至少一个制造偏差相对应;至少根据分解得到的该偏移型涡电流磁场、该制造偏差型涡电流磁场以及与真实磁体相关的多个参数计算与该真实磁体相关的优化的偏移型涡电流磁场,且该优化的偏移型涡电流磁场与该第一梯度线圈和该第二梯度线圈的第二偏移值相对应,以及在该仿真磁体上以一定的方式将该第一梯度线圈和该第二梯度线圈调整成具有该第二偏移值。
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