[发明专利]一种高纯硅衬底抛光液无效
| 申请号： | 201210508326.6 | 申请日： | 2012-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN103849319A | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 顾小玲 | 申请（专利权）人： | 江苏天恒纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 226000 江苏省南*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高纯硅衬底抛光液，按重量百分比包括下述组成：二氧化硅溶胶50-80%，有机碱1-10wt%，pH调节剂0.1-3wt%，螯合剂0.05-0.5wt%，分散剂0.01-1%，活性剂0.001-0.1wt%，其余为水。本发明所述的一种高纯硅衬底抛光液，克服了抛光液稀释倍数低，速率低，易污染的缺点，本发明纯度高，无金属杂质污染，稀释倍数高，抛光速率高且抛光速率稳定，易于生产和操作，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高纯 衬底 抛光 | ||
【主权项】：
一种高纯硅衬底抛光液，其特征在于：按重量百分比包括下述组成：二氧化硅溶胶50‑80%，有机碱1‑10wt%，pH调节剂0.1‑3wt%，螯合剂0.05‑0.5wt%，分散剂0.01‑1%，活性剂0.001‑0.1wt%，其余为水。
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