[发明专利]一种用于蓝宝石CMP的高浓度抛光组合物及其制备方法无效
| 申请号： | 201210508350.X | 申请日： | 2012-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN103849320A | 公开（公告）日： | 2014-06-11 |
| 发明（设计）人： | 顾小玲 | 申请（专利权）人： | 江苏天恒纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 226000 江苏省南*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于蓝宝石CMP的高浓度抛光组合物及其制备方法，所述用于蓝宝石CMP的高浓度抛光组合物按质量百分比配置，硅溶胶：pH调节剂：活性剂：缓冲剂=90：6：2：2；所述制备方法如下，首先按比例取硅溶胶，然后向其加入pH调节剂，搅拌2min后，向混合液加入活性剂搅拌3min后，再继续加入缓冲剂，搅拌20min。本发明所述的一种用于蓝宝石CMP的高浓度抛光组合物，能满足工业上对蓝宝石衬底片CMP精密加工的要求，本发明具有成本低、低粗糙、高速率、不污染环境及腐蚀设备的优点，有效节省了反应时间，提高了蓝宝石抛光液的抛光速率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 蓝宝石 cmp 浓度 抛光 组合 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于蓝宝石CMP的高浓度抛光组合物及其制备方法，其特征在于：所述用于蓝宝石CMP的高浓度抛光组合物按质量百分比配置，硅溶胶：pH调节剂：活性剂：缓冲剂=90：6：2：2；所述制备方法如下，首先按比例取硅溶胶，然后向其加入pH调节剂，搅拌2min后，向混合液加入活性剂搅拌3min后，再继续加入缓冲剂，搅拌20min。
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