[发明专利]一种氮在碳纳米尖端中掺杂的有效方法有效
申请号: | 201210518918.6 | 申请日: | 2012-12-06 |
公开(公告)号: | CN102976308A | 公开(公告)日: | 2013-03-20 |
发明(设计)人: | 王必本;全学军 | 申请(专利权)人: | 重庆理工大学 |
主分类号: | C01B31/02 | 分类号: | C01B31/02;B82Y30/00;C09K11/65;B01J27/24;H01J1/304 |
代理公司: | 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 | 代理人: | 张先芸 |
地址: | 400054 重*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | 本发明提供一种氮在碳纳米尖端中掺杂的有效方法,在Si衬底上沉积一层金膜作为催化剂层,以CH4、H2和N2为反应气体,在利用等离子体增强热丝化学气相沉积制备碳纳米尖端的过程中,将氮有效地掺入碳纳米尖端中;其中,金膜的厚度为5~30nm;反应气体中,CH4的浓度15~20%,H2的浓度50~65%,N2的浓度15~40%;衬底温度为800~900℃;反应室的工作压强为1500~3000Pa;偏压电流120~160mA;生长时间20~30分钟。本发明利用金催化剂层制备的碳纳米尖端为非晶碳纳米尖端,含氮量可达11%以上,有sp3C-N和sp2C-N成分。尤其是发现金催化剂颗粒位于碳纳米尖端的顶端,解决了碳纳米尖端顶端制备电极的困难,为它在发光二极管(LED)的应用奠定了基础。它将来可用作白光发光二极管(LED)、场电子发射器制备和光催化的候选材料。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 尖端 掺杂 有效 方法 | ||
【主权项】:
一种氮在碳纳米尖端中掺杂的有效方法,其特征在于,在Si衬底上沉积一层金膜作为催化剂层,以CH4、H2和N2为反应气体,在利用等离子体增强热丝化学气相沉积制备碳纳米尖端的过程中,将氮有效地掺入碳纳米尖端中,金颗粒位于形成的碳纳米尖端顶端;其中,金膜的厚度为5~30 nm;反应气体中,CH4的浓度15~20%,H2的浓度50~65%,N2的浓度15~40%;衬底温度为800~900℃;反应室的工作压强为1500~3000Pa;偏压电流120~160mA;生长时间20~30分钟。
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