[发明专利]一种氮在碳纳米尖端中掺杂的有效方法有效

专利信息
申请号: 201210518918.6 申请日: 2012-12-06
公开(公告)号: CN102976308A 公开(公告)日: 2013-03-20
发明(设计)人: 王必本;全学军 申请(专利权)人: 重庆理工大学
主分类号: C01B31/02 分类号: C01B31/02;B82Y30/00;C09K11/65;B01J27/24;H01J1/304
代理公司: 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 代理人: 张先芸
地址: 400054 重*** 国省代码: 重庆;85
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摘要: 发明提供一种氮在碳纳米尖端中掺杂的有效方法,在Si衬底上沉积一层金膜作为催化剂层,以CH4、H2和N2为反应气体,在利用等离子体增强热丝化学气相沉积制备碳纳米尖端的过程中,将氮有效地掺入碳纳米尖端中;其中,金膜的厚度为5~30nm;反应气体中,CH4的浓度15~20%,H2的浓度50~65%,N2的浓度15~40%;衬底温度为800~900℃;反应室的工作压强为1500~3000Pa;偏压电流120~160mA;生长时间20~30分钟。本发明利用金催化剂层制备的碳纳米尖端为非晶碳纳米尖端,含氮量可达11%以上,有sp3C-N和sp2C-N成分。尤其是发现金催化剂颗粒位于碳纳米尖端的顶端,解决了碳纳米尖端顶端制备电极的困难,为它在发光二极管(LED)的应用奠定了基础。它将来可用作白光发光二极管(LED)、场电子发射器制备和光催化的候选材料。
搜索关键词: 一种 纳米 尖端 掺杂 有效 方法
【主权项】:
一种氮在碳纳米尖端中掺杂的有效方法,其特征在于,在Si衬底上沉积一层金膜作为催化剂层,以CH4、H2和N2为反应气体,在利用等离子体增强热丝化学气相沉积制备碳纳米尖端的过程中,将氮有效地掺入碳纳米尖端中,金颗粒位于形成的碳纳米尖端顶端;其中,金膜的厚度为5~30 nm;反应气体中,CH4的浓度15~20%,H2的浓度50~65%,N2的浓度15~40%;衬底温度为800~900℃;反应室的工作压强为1500~3000Pa;偏压电流120~160mA;生长时间20~30分钟。
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