[发明专利]一种新型多晶硅铸锭装置及其铸锭方法无效
申请号: | 201210526801.2 | 申请日: | 2012-12-10 |
公开(公告)号: | CN103014850A | 公开(公告)日: | 2013-04-03 |
发明(设计)人: | 刘亚;郭志球;苏旭平;王建华 | 申请(专利权)人: | 常州大学 |
主分类号: | C30B28/06 | 分类号: | C30B28/06;C30B29/06;C30B30/04 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 卢亚丽 |
地址: | 213164 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及多晶硅铸锭技术领域,尤其是一种在隔热笼外设置有用于控制多晶硅工艺生长步骤从而得到多晶硅铸锭的磁场激励装置及其铸锭方法。该方法的步骤为:装填硅料,调节硅料电阻率,加热硅料,在硅料的融化阶段加入磁场搅拌硅液,并且在随后的结晶阶段同样加入磁场搅拌硅液,冷却并取出硅碇。本发明的有益效果是:铸造多晶硅时采用安装在隔热笼外面的磁场激励装置搅拌硅液,液相成分分布更加均匀,提纯效果更好,得到的铸锭杂质含量更低,成分更加均匀,制备出来的电池片效率更高。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 多晶 铸锭 装置 及其 方法 | ||
【主权项】:
一种新型多晶硅铸锭装置,包括铸锭炉腔体、位于所述铸锭炉腔体内的隔热笼、设置于所述铸锭炉腔体和所述隔热笼之间的石墨加热器、设置于所述隔热笼内侧的坩埚,其特征在于:所述隔热笼外设置有用于控制多晶硅工艺生长步骤从而得到多晶硅铸锭的磁场激励装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州大学,未经常州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210526801.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种氮化铝晶体生长制备炉
- 下一篇:一种微纳尺度石墨烯自组装生长的方法